コータ/デベロッパの市場動向 EUV時代を迎え東京エレクトロンの独占進む(2022年6月10日)

 フォトレジストの塗布現像プロセスを担当するコータ/デベロッパでは、EUVリソグラフィシステム、特に高NAシステムに対応した装置開発が重要なテーマとなっている。
 EUVリソグラフィについては、台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing(TSMC)社が2019年10月から7nmプロセスの量産での利用を開始、 2020年4月から 5nmプロセスにも応用しており、2022年後半には3nmプロセスでの量産開始を予定している。
 韓国Samsung Electronics社もファンドリ事業においてEUVシステムの導入を進める一方、主力製品であるDRAM製造にも2021年から本格的に導入している。米Intel社でも、プロセサの量産、ファンドリ事業へのEUVシステムの導入を行っている。
 EUVリソグラフィシステムはオランダASML Holdings(以下ASML)が独占的に供給している。同社では3nm以降の最先端プロセスに向けて、高NA化、高精度化などの開発を進めている。同社では3nm以降の最先端プロセスに向けて、高NA化、高精度化などの開発を進めている。高NA化については、2021年後半に出荷を開始した「TWINSCAN NXE:3600D」ではNA=0.33であったが、同年から受注を開始した次世代装置「TWINSCAN EXE:5200」では、 NA= 0.55にまで高められている。
 次世代の高NA EUVリソグラフィでは、従来の化学増幅型レジストでは十分な感度が得られなくなってきた。このため、メタル材を含有した化学増幅型レジスト(メタル含有レジスト)の採用が有望視されるようになった。